第54章 王总工“授课”（2）
“各位你们现在有已经开始这个方向的研究吗？
有的话，可以提出来，我们可以同研究。”
一位戴着眼镜的年轻工程师举了手“王总工，我是咱们所计算机研究所的研究员。
您说的计算机数控光学表面形成技术，我在国外杂志中有看到过，但只是很浅显的报道。
同时目前这方面的技术已经倭国和泡菜国垄断。
再加上我们国家数控方面相关技术的落后，很难形成一个系统的研究。
不知道您在这个方面有什么比较好的技术，我对这个很感兴趣。”
………
“我自然已经对计算机数控光学表面形成技术有一定研究。
接下来我就为大家介绍一下相关技术：
第一个技术：小磨头抛光技术。
这是使用一个比工件口径小得多的磨头对工件进行抛光。
通过控制磨头在工件表面不同位置的驻留时间以及磨头与工件之间的压强来控制材料去除量，能够实现数十纳米级的加工精度。
当然这是现在国际上的加工精度，我已经将其改进为0.1纳米级的加工精度，可以适配到我们现在的项目上。
第二个技术：应力盘抛光。
很简单的说就是抛光盘在计算机控制下可根据要加工的形状实时变形，实现抛光盘与工件的完全贴合。
这个技术不存在什么难度，只是如何实现存在一定的技巧。
第三个技术：磁流变抛光。
就是使用具有磁流变效应的特殊抛光液作为抛光材料。
这种材料因为比较特殊，目前国内无法制作，不过我已经通过我的渠道解决了。
不过我还是简要介绍一下这种材料：这种抛光液含有无磁性的抛光粉和磁性的铁粉，在无磁场时表现为常规的液体状态，而在磁场作用下铁粉定向排列使抛光液表现出类固体性质。
磁流变抛光液吸附在带磁场的抛光轮上，形成一层柔性抛光模，随抛光轮的转动与工件接触，对工件表面进行塑性剪切去除。
抛光模的刚度和韧性等参数可以通过磁场进行实时精确调控，与工件表面始终紧密贴合，加工效率高、加工过程稳定、加工精度高、表面质量好（不产生表面和亚表面损伤），可将面型精度提高到纳米级。
第四个技术：离子束抛光技术。
通过我的技术改造，可将镜头的精度从亚纳米级提升到超纳米级，这种程度完全可以碾压现在国际的同类产品。
其实现的原理就是在真空条件下，利用电场将氩气等惰性气体电离为离子，轰击工件表面，将表面原子去除。
这是一种原子量级的加工手段，可以达到原子级的精度和表面粗糙度，加工的准确性和稳定性好，与工件之间没有机械接触、不产生表面损伤，是目前最先进的光学元件加工技术。”
“各位刚刚我讲的4点技术，都是以计算机数控光学为基础研究形成的技术。
有什么不清楚的可以继续提出来，我们相互讨论一下。”王昊哲笑着说道。
看到在场的所有研究员都在思考着，方中一所长笑着说道“看来各位对王总工的讲解很有启发，既然这样各位就根据手头的制造图纸结合王总工的讲解，自己消化一下，如果有什么问题再请教王总工。”
听到方中一所长这样说，王昊哲也不准备再做停留“方所长，那我就走了，之后有什么问题，我们再沟通。”
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最后王昊哲直奔中科院校准技术研究所，刚要进入研究室的王昊哲就听到里面发生了激烈的争吵。
“王总工的制造图纸怎么会有问题，我看是你们自己没有能理解清楚。
制造图纸中明明白白的讲清楚了光刻对准技术由最初的明场和暗场对准发展到后来的干涉全息或外差干涉全息对准、混合匹配、由粗略到精细对准技术等-----”
王昊哲在门外听了一会儿，听到有研究员能理解自己的制造图纸，不住的点了点头。
随即王昊哲便推门走了进去，见到来人是王昊哲，研究室内的众人也不争吵了“刚刚在外面我听了一点你们之间的谈话，大概明白了你们的想法。
刚刚那位帮我说话的研究员是谁？
对我的研究有一定的见解，很不错。”
只见一位模样瘦小的小姑娘踮着脚尖举着手“是我，王总工。通过我的理解您的制造图纸是没有问题的。”
“哈哈哈，真的感谢这位小姑娘的信任，不过各位能有不同的想法我也是很高兴的，科学研究就是要这样，通过不断地讨论我们才能取得进步。
我现在给你们讲解下你们手中制造图纸最重要地三个部分：
第一个部分是：双光束ttL对准技术。
该技术主要通过在掩模一侧通过精缩物镜进行测量，该技术能允许连续的倍率控制，具有稳定性好、精度高、速度快等优点。
利用该技术再配上‘超紫外光’能发挥出更大的工作能效。
第二个部分是：场像对准技术。
这种方法也叫视频图像处理对准技术（field image alignment，FIA），是指在光刻套刻的过程中，掩模图样与硅片基板之间基本上只存在相对旋转和平移，充分利用这一有利条件，结合机器视觉映射技术，利用相机采集掩模图样与硅片基板的对位标记信号。
国际上其光源一般是宽带的卤素灯，波长在550~800nm。
但是我对这个技术进行了优化调整，我们将会使用波长更为合适的蓝紫外光，同这样的调整，该技术相对于其他的对准方式其具有对准精度高、结构简单、可操作性强、效率高的优势。
第三个部分是：双焦点对准方法。
这是星条旗国路易斯安那州立大学m．Feldman等人设计的双焦点物镜对准系统，是针对一般情况下掩模硅片标记无法同时成像而改进的。
不得不说，星条旗国为什么科技水平能领先于世界各国的确离不开这些科学巨匠。
该系统大致对准原理是，通过偏振分光镜将标记采集后的光路分成两路，如图一。适当延长从掩模返回的光路长度，最后两标记都可以在ccd摄像机上成清晰等大的像，继而利于同时对准。
利用相应的标记图像处理技术，该方法可以达到约15nm对准精度(3σ，σ为标准差)。
各位以上就是主要的三个方面，也是你们需要攻克的三个方面。
刚刚的那位小姑娘，我想通过我的讲解你应该有更深刻的印象。
在座的各位研究员，是否还有其他的问题，如果有的话可以直接提出来。”
“王总工，我想问的是您刚刚说的三个部分技术都是为了‘校准’，那是否都要研究出来？还是只要研究出其中一个技术就行？”还是刚刚的小姑娘问道。
“问的很好，其实很简单，三个技术都是独立的，但是我为了提高其校准性，三个校准技术要同时使用，通过三次校准提高其校准度，这样我们所得的结论将更加精确。
也就是说你们需要同时将三个技术全部攻克。
各位这个明白没?还有其他的疑问吗？”
见众人没有回复“我提议，刚刚的小姑娘可以成为你们校准技术研究所此次研究方向的小组长。”王昊哲笑着说道。
此时的这位小姑娘双手捂着嘴不敢相信自己听到的一切-----